高浓度臭氧水生成系统NX-QC
■臭氧水浓度高
(最大30ppm)
半导体,液晶,太阳能电池等洁净规格(臭氧水生成部由氟素树脂材料组成)
达到臭氧最大浓度仅需大约1分钟
长400mm。宽550mm。高820mm(标准规格)
目前市场上关于半导体晶片的清洗,主要使用的是SCL(氨/过氧化氢)硫酸,盐酸等药物,价格较高。使用臭氧水和稀氢氟酸来代替这些化学药品,在降低成本的同时,可以更好地去除金属杂质。
臭氧具有仅次于氟的高氧化还原电位,可以氧化分解大量杂质。例如,氧化有机物质并除去二氧化碳气体。此外,通过氧化硅的表面形成二氧化硅膜,从而实现清洗后不留斑点。
我们设计在臭氧水生成一个点的核心不具有所谓的多余的质量设计。除了氧气,其他原料几乎不消耗,因此具有很高的性价比(取决于机型)。
◯半导体(清洗)
◯FPD,液晶(清洗)
◯MEMS,传感器(清洁)
◯硬盘(清洗)
◯太阳能电池(清洁)
◯医疗(洗手,纯净水管道清洗)
◯食品(洗手,消毒,除臭)
利用臭氧的强氧化能力,可以实现分解并去除大量的杂质。
根据杂质的形状与数量的不同,所需浓度也将有所变化,请参考右图数据。
此外,如将稀氢氟酸与臭氧水同时使用,去除杂质的效果将倍增。
項目 | 項目 |
---|---|
臭氧生成方式 | 无声放电法 |
将臭氧气体溶解于纯净水的方法 | 喷射方式 |
臭氧水中臭氧的浓度监测 | 紫外吸收法 |
臭氧水浓度 | 最高为30ppm |
臭氧水流量 | 最高50L /min |
设备尺寸 | 宽度400mm 深度550mm 高度850毫米(标准型) |
重量 | 20 ~ 100Kg |
消耗功率 | ~3KW |
氧气压力 | 为0.1MPa(供给为0.3MPa) |
氧气纯度 | 99.5%(指定) |
氧气消耗量 | ~16L/min. |
供应纯净水的压力 | 0.20Mpa以上(理想值0.25MPa) |
供应纯净水的温度 | 低于25℃ |
臭氧气体生成部的冷却水温度 | 理想值为20℃以下。如无法实现,需根据情况增加冷却器(可选)。 |
CO2气体消耗量 (臭氧浓度过高时需通过纯净水?行注入) | 大约100cc/min |
装置 タイプ | 製品 | 用途 | オゾン 濃度(ppm) | 臭氧浓度 (L/min) | 納期 |
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Ⅰ | ●而半导体精密清洗 ●LED,LCD,传感器 ●太阳能电池,MEMS部 | ●半导体用洁净规格。 ●所有的过流部件均采用塑料部件。( 臭氧水中不含有金属成分) | 25 | 10 | 1~ 2.5ヶ月 |
25 | 30 | ||||
20 | 2.5 | ||||
20 | 5 | ||||
10 | 5 | ||||
10 | 10 | ||||
5 | 10 | ||||
5 | 20 | ||||
Ⅱ | 允许臭氧水含有少量金属成分 | ●低价版。 ●在气体溶部位使用SUS316材质的装置,管道。臭氧气体生成部与上述相同。 ●如果允许臭氧水含有少量金属成分,与I机型相比价格低廉。 | 25 | 10 | |
25 | 30 | ||||
20 | 2.5 | ||||
20 | 5 | ||||
10 | 5 | ||||
10 | 10 | ||||
5 | 10 | ||||
5 | 20 |
a) 半导体用化学药品一般包括SC1(NH4OH/H2O2/DIW) 和SC2 (HCl/H2O2/DIW),但是SC1 和SC2是相对较贵,并且需在60-100 ℃的高温条件下发生作用,难以使用。而近年,臭氧水作为可替代SC1 和SC2 的新的清洗方式, 受到广泛关注。因为仅仅是将纯净水通过臭氧水生成器,便可以简单地产生臭氧,因此可大大降低运营成本。
b) 使用臭氧水进行清洗处理后,臭氧成分便迅速蒸发,因此废水处理也十分容易。
因为臭氧拥有仅次于氟素的氧化还原能力,其清洗能力高于SC1、SC2尤其是用于清洗表面很难氧化的碳化硅或氮化镓基板也十分有效。(两者作为半导体材料受到广泛关注)
※清洗装置使用枚叶式主轴。
使用臭氧水 | 优劣判断 | 使用药液 | |
---|---|---|---|
①仅次于氟素的强氧化能力 →去除金属,有机物强力有效 | ○ | × | ①使用盐酸,硫酸,双氧水等具有强酸性的药液,并且药液具有100℃左右的高温,操作时要十分注意。 |
②臭氧水处理后形成氧化膜,(0.8nm左右) →晶片表面具有亲水性 →晶片表面粒子数少 | ○ | ○ | ②将氨气/双氧水与上述①强酸一起使用的情况较多(为了除去粒子) |
③臭氧成分通过自然蒸发,或者通过使用简易臭氧分解设备, 从而使工厂排水变为可能。 →臭氧水易蒸发,立刻变成纯水 →可以使用工厂废水管道排放臭氧水 →纯水可循环利用 | ○ | ○ | ③药液使用后,使用工厂的废液处理设备中和处理。 → 药液不可循环使用 |
成本比较
⑤消耗材料价格低 →基本上只需支付氧气费用和电费 总计费用2600元/月(31000元/年) | ○ | × | ④药液成本高。(以使用浴槽式设备清洗为例计算) 总计药液费用:31000元/月(5600000元/年) |
(上述⑤的具体内容) ・氧气费用:1liter/分 、63元/m3、臭氧水制造设备的运转率以80%计算为例 → 1个月氧气使用费:2260元 ・电费 设备消耗电力:400W,电费以1.5元/KWh为例,每个月的电费330元/月 | (上述④的具体内容) ・硫酸/双氧水(50升*3回交换/每天。成分比:硫酸5对双氧水1。硫酸单价:50元/500ml,双氧水单价:75日元/500ml) →每月硫酸消耗量3,750升(370000元/月) →每月双氧水消費量750升(96000元/月) | ||
⑥与其它公司相比,低价提供设备 |
电话:021-57877360
邮箱:shzondo@163.com
地址:上海市松江区九亭镇九新公路339号
网址:http://www.zondopro.com