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超高浓度臭氧水生成系统——工业、半导体、精密行业

高浓度臭氧水生成系统NX-QC■臭氧水浓度高(最大30ppm)■臭氧水中无金属杂质半导体,液晶,太阳能电池等洁净规格(臭氧水生成部由氟素树脂材料组成)■臭氧浓度上升快达到臭氧最大浓度仅需大约1分钟■生成器体积小长400mm。宽550mm。高820mm(标准规格)■与其他公司产品相比价格低廉节约成本替代药品目前市场上关于半导体
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高浓度臭氧水生成系统NX-QC



■臭氧水浓度高

(最大30ppm)

■臭氧水中无金属杂质

半导体,液晶,太阳能电池等洁净规格(臭氧水生成部由氟素树脂材料组成)

■臭氧浓度上升快

达到臭氧最大浓度仅需大约1分钟

■生成器体积小

长400mm。宽550mm。高820mm(标准规格)

■与其他公司产品相比价格低廉

臭氧水生成装置的概要

节约成本替代药品

  • 节约成本替代药品

    目前市场上关于半导体晶片的清洗,主要使用的是SCL(氨/过氧化氢)硫酸,盐酸等药物,价格较高。使用臭氧水和稀氢氟酸来代替这些化学药品,在降低成本的同时,可以更好地去除金属杂质。

  • 出色的清洗能力仅次于氟素的酸化还原能力

    臭氧具有仅次于氟的高氧化还原电位,可以氧化分解大量杂质。例如,氧化有机物质并除去二氧化碳气体。此外,通过氧化硅的表面形成二氧化硅膜,从而实现清洗后不留斑点。

  • MTK旨在提供低成本的设备

    我们设计在臭氧水生成一个点的核心不具有所谓的多余的质量设计。除了氧气,其他原料几乎不消耗,因此具有很高的性价比(取决于机型)。

使用臭氧水生成装置的

◯半导体(清洗)
◯FPD,液晶(清洗)
◯MEMS,传感器(清洁)
◯硬盘(清洗)
◯太阳能电池(清洁)
◯医疗(洗手,纯净水管道清洗)
◯食品(洗手,消毒,除臭)

使用臭氧水可去除的物质以及所需臭氧的浓度

利用臭氧的强氧化能力,可以实现分解并去除大量的杂质。
根据杂质的形状与数量的不同,所需浓度也将有所变化,请参考右图数据。
此外,如将稀氢氟酸与臭氧水同时使用,去除杂质的效果将倍增。

臭氧水生成装置的性能数据

基本规格

項目項目
臭氧生成方式无声放电法
将臭氧气体溶解于纯净水的方法喷射方式
臭氧水中臭氧的浓度监测紫外吸收法
臭氧水浓度最高为30ppm
臭氧水流量最高50L /min
设备尺寸宽度400mm 深度550mm 高度850毫米(标准型)
重量20 ~ 100Kg
消耗功率~3KW
氧气压力为0.1MPa(供给为0.3MPa)
氧气纯度99.5%(指定)
氧气消耗量~16L/min.
供应纯净水的压力0.20Mpa以上(理想值0.25MPa)
供应纯净水的温度低于25℃
臭氧气体生成部的冷却水温度理想值为20℃以下。如无法实现,需根据情况增加冷却器(可选)。
CO2气体消耗量
(臭氧浓度过高时需通过纯净水?行注入)
大约100cc/min

臭氧水发生器产品阵容

装置
タイプ
製品用途オゾン
濃度(ppm)
臭氧浓度
(L/min)
納期
●而半导体精密清洗
●LED,LCD,传感器
●太阳能电池,MEMS部
●半导体用洁净规格。
●所有的过流部件均采用塑料部件。( 臭氧水中不含有金属成分)
25101~
2.5ヶ月
2530
202.5
205
105
1010
510
520
允许臭氧水含有少量金属成分●低价版。
●在气体溶部位使用SUS316材质的装置,管道。臭氧气体生成部与上述相同。
●如果允许臭氧水含有少量金属成分,与I机型相比价格低廉。
2510
2530
202.5
205
105
1010
510
520

使用臭氧水清洗的优点

①减少化学药品的使用

a) 半导体用化学药品一般包括SC1(NH4OH/H2O2/DIW) 和SC2 (HCl/H2O2/DIW),但是SC1 和SC2是相对较贵,并且需在60-100 ℃的高温条件下发生作用,难以使用。而近年,臭氧水作为可替代SC1 和SC2 的新的清洗方式, 受到广泛关注。因为仅仅是将纯净水通过臭氧水生成器,便可以简单地产生臭氧,因此可大大降低运营成本。
b) 使用臭氧水进行清洗处理后,臭氧成分便迅速蒸发,因此废水处理也十分容易。

②出色的清洗能力(颗粒, 金属污染物,有机物质)

因为臭氧拥有仅次于氟素的氧化还原能力,其清洗能力高于SC1、SC2尤其是用于清洗表面很难氧化的碳化硅或氮化镓基板也十分有效。(两者作为半导体材料受到广泛关注)

推荐的清洗处理方法

※清洗装置使用枚叶式主轴。

使用臭氧水的优点(与使用药液的比较)

使用臭氧水优劣判断使用药液
①仅次于氟素的强氧化能力
  →去除金属,有机物强力有效
×①使用盐酸,硫酸,双氧水等具有强酸性的药液,并且药液具有100℃左右的高温,操作时要十分注意。
②臭氧水处理后形成氧化膜,(0.8nm左右)
 →晶片表面具有亲水性
 →晶片表面粒子数少
②将氨气/双氧水与上述①强酸一起使用的情况较多(为了除去粒子)
③臭氧成分通过自然蒸发,或者通过使用简易臭氧分解设备, 从而使工厂排水变为可能。
→臭氧水易蒸发,立刻变成纯水
→可以使用工厂废水管道排放臭氧水
→纯水可循环利用
③药液使用后,使用工厂的废液处理设备中和处理。
→ 药液不可循环使用

成本比较

⑤消耗材料价格低
→基本上只需支付氧气费用和电费
总计费用2600元/月(31000元/年)
×④药液成本高。(以使用浴槽式设备清洗为例计算)
总计药液费用:31000元/月(5600000元/年)
(上述⑤的具体内容)
・氧气费用:1liter/分 、63元/m3、臭氧水制造设备的运转率以80%计算为例 → 1个月氧气使用费:2260元
・电费  设备消耗电力:400W,电费以1.5元/KWh为例,每个月的电费330元/月
(上述④的具体内容)
・硫酸/双氧水(50升*3回交换/每天。成分比:硫酸5对双氧水1。硫酸单价:50元/500ml,双氧水单价:75日元/500ml)
→每月硫酸消耗量3,750升(370000元/月)
→每月双氧水消費量750升(96000元/月)
⑥与其它公司相比,低价提供设备

臭氧水清洗处理后的金属附着量


 

上海溱道环保技术有限公司

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